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X射線晶體分析儀能夠提供穩(wěn)定的X射線光源
X射線晶體分析儀能夠提供穩(wěn)定的X射線光源
更新時間:2017-05-19
點擊次數(shù):4855
X射線晶體分析儀
能夠提供穩(wěn)定的X射線光源,特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統(tǒng)進行調流調壓,從而獲得一個強而穩(wěn)定的射線光源.該機射線發(fā)生器功率大,整機穩(wěn)定性高,操作簡單,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源。廣泛用于冶金、機械,電子、化工、地質、能源等科研、企業(yè)、大專院校。
X射線晶體分析儀主要用于研究物質內部微觀結構。如:單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數(shù)、測定殘余應力等。
X射線晶體分析儀主要特點:
1.冷卻裝置:自帶制冷系統(tǒng),無需外接水循環(huán),并自動控制水溫及顯示X光管溫度。
2.外射線計量不大于2.5μSv/h
3.X光管:額定功率2KW(銅靶)
4.定時:單片機自動定時,定時時間任意選擇。
X射線晶體分析儀技術指標及配置
X射線晶體分析儀
zui大管壓:60kV,zui大管流:60mA;陶瓷X光管zui大功率:2.2kW(Cu靶),zui大管壓:60kV,zui大管流:55mA,測角儀掃描方式有θ/θ和θ/2θ兩種,多功能樣品臺、X’Celerator超能探測器、升溫附件和小角散射附件
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